Polarizační filtr CPL NANO-XUltra-Low Reflection Velikost filtru: 55 mm FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENO PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKY - Velmi nízký koeficient odrazivosti 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost - Nová technologie povlakování titanem účinně eliminuje případné zežloutnutí obrazu - Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla - 28 Nano antireflexních a ochranných vrstev - Super nízký profil typu SLIM (pouze 5.3 mm tloušťky)... Celý popis

Koupit za 753 Kč

Popis

Polarizační filtr CPL NANO-XUltra-Low Reflection
Velikost filtru: 55 mm
FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENO PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKY

- Velmi nízký koeficient odrazivosti 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
- Nová technologie povlakování titanem účinně eliminuje případné zežloutnutí obrazu
- Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
- 28 Nano antireflexních a ochranných vrstev
- Super nízký profil typu SLIM (pouze 5.3 mm tloušťky)
- Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníkovo-hořčíkové slitiny
- Součástí balení je pevné balení pro uložení filtru

Produkt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrů.

MODEL: KF01.2475 / 55 mm Nano X CPL Ultra Low Reflection

Společnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní, profesionální polarizační filtry CPL. Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou provedení a stupněm pokročilosti.
Filtr má až několik desítek nanopovlaků nanesených vrstveně na optické sklo.
Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářskou fotografii.

Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.

Filtr CPL eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i metalických povrchů. Díky tomu je možné provádět například fotografií přes sklo.

Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. V důsledku toho filtr částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména při fotografování oblohy, která se stává tmavší a zároveň zachovává bílou barvu mraků.

Filtr CPL také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zeleně rostlin) a redukce odrazů od průhledných povrchů (např. vodní plochy nebo skla).
Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:

- Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a dosahuje více než 99,9 %
- Filtr má speciální nanovrstvy, které zajišťují výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených fotografií.
- Filtr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot.
- Vynikající poměr kvality a ceny.
Filtr je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 55 mm.Filtr je určen pro mj. pro následující přístroje:

- NIKON D5500 / D5300 / D5200 / D3400 / D3300 / D3200 s objektivy: Nikon / Nikkor AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G nebo Nikkor AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G VR
Filtr je vhodný pro fotoaparáty s následujícími modely objektivů m.in:
Nikon:

- NIKKOR AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G
- NIKKOR AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G VR
- NIKKOR VR 10–100 mm f/4,0–5,6

Sony:

- 18-70 mm F3.5-5.6
- DT 18-55 mm F3.5-5.6 SAM
- SAL-1855-2
- SAL-1855
- SAL-35F14G
- SAL-35F18
- SAL-50F14
- SAL-50M28
- SAL-85F28
- SAL-75300
- SAL-55200-2
- SAL-100M28

Tamron:

- AF 60 mm F/2 Di II LD (IF) Macro 1:1
- AF 90 mm SP F/2.8 Di Makro

Sigma:

- 50-200 F4-5.6 DC OS HSM
- 50 F2.8 EX DG MAKRO
SPECIFIKACE FILTRU:

- Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického skla
- Dvoustranně potažené 28vrstvou vrstvou (NANO-X) sklo
- Ochranná hydrofobní, protiolejová, protiprachová, protišpinivá, odolná proti poškrábání vrstva.
- Nemění barevnost záběru – je zcela neutrální
- Supertenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5.3 mm
- Nemá negativní vliv na práci systému AUTOFOCUS
- Pevná krabička na filtr je součástí balení

- Filtr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot
- Filtr je pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách
Součástí balení jsou:

- 1 x filtr
- 1x pevné, pevné balení zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující přepravu filtru
Příklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X
Pozor! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další doplňkové příslušenství zobrazené na fotografiích plní pouze náhledovou roli a nejsou předmětem prodeje.

Produkt je zcela nový a je v originálním balení.

Kód produktu (SBkod): SB8645
Zobrazit více

Parametry

Výrobce K&F Concept
Průměr 55 mm